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发明名称
SEMICONDUCTOR PROCESS RESIDUE REMOVAL COMPOSITION AND PROCESS
摘要
申请公布号
EP1509490(A1)
申请公布日期
2005.03.02
申请号
EP20020742372
申请日期
2002.07.01
申请人
EKC TECHNOLOGY, INC.
发明人
LEE, WAI MUN;IP, KATY;DINH, XUAN-DUNG;MALONEY, DAVID, J.
分类号
C11D3/30;C11D7/32;C11D7/50;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/304;(IPC1-7):C07C215/14;H01L21/306
主分类号
C11D3/30
代理机构
代理人
主权项
地址
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