发明名称 SEMICONDUCTOR PROCESS RESIDUE REMOVAL COMPOSITION AND PROCESS
摘要
申请公布号 EP1509490(A1) 申请公布日期 2005.03.02
申请号 EP20020742372 申请日期 2002.07.01
申请人 EKC TECHNOLOGY, INC. 发明人 LEE, WAI MUN;IP, KATY;DINH, XUAN-DUNG;MALONEY, DAVID, J.
分类号 C11D3/30;C11D7/32;C11D7/50;C11D11/00;G03F7/42;H01L21/304;(IPC1-7):C07C215/14;H01L21/306 主分类号 C11D3/30
代理机构 代理人
主权项
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