三维光阻结构的制作方法

摘要

本发明提供一种三维光阻结构的制作方法，上述制作方法包括提供一可用于蚀刻之基底。并利用高速旋涂的方法，形成一光阻层于该基底表面。接着将该光阻层以元件区块为单位画分成复数个微区域，并于各微区域中施予既定之曝光剂量进行选择性曝光，并适当调整微区域间隔，可得所需的三维结构。将曝光后之该光阻层直接显影，以形成连续平滑表面之三维光阻结构。