反射防止膜材料,具有反射防止膜之基板及图型形成方法

摘要

本发明之目的在提供，对于短波长之曝光具有优良的反射防止效果，蚀刻选择比高，即相对于光阻膜蚀刻速率十分快，相较于被加工基板蚀刻速率十分慢，并可使形成于反射防止膜上之光阻膜的光阻图型形状为垂直形状之反射防止膜材料。其系用于微影术中之反射防止膜材料，其特征为：至少，含具有下述一般式(1)的共聚得之重复单元的高分子化合物，或含具有下述一般式(2)的共聚得之重复单元的高分子化合物，以及具有下述一般式(3)的共聚得之重复单元的高分子化合物。093107775-p01.bmp