发明名称 无遮罩光刻用之投射光学系统
摘要 一种无遮罩光刻系统,其包含一照明系统、一具有非线形形状(例如,曲面、凹面、球面等等的)SLM、一曝光系统、及一分光镜,此分光镜将光从照明系统导引至SLM,并且从SLM导引至曝光系统。在一些实施例中,光学元件能够系位于分光镜与SLM之间,有可能做像差的校正。
申请公布号 TW200508814 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW093118165 申请日期 2004.06.23
申请人 艾斯摩控股股份有限公司 发明人 史丹利斯拉夫 史密诺夫;马克 欧斯寇斯基
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 荷兰