曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法

摘要

提供一种曝光方法，其在透过投影光学系统与基板间之液体对基板进行液浸曝光处理之情形时，也能高精度转印图案。在包含投影光学系统投影区域之基板上至少一部分形成液浸区域，透过投影光学系统与基板间之液体及投影光学系统，将光罩之图案像投影至基板上，以使基板曝光之际，依据射入投影光学系统与基板间之液体的曝光用光之分布，进行调整，俾使所欲之图案像投影至基板上。