使用各种频率射频功率调变之高孔径比蚀刻

摘要

本发明提供一种蚀刻方法，用于在一基底上经由一掩模而蚀刻一高孔径比图型在一受蚀刻之层上。该基底设置在一处理室中，该处理室可提供在第一频率，与第一频率不同的第二频率，和与第一和第二频率不同的第三频率上之RF功率。一蚀刻气体提供至处理室。于此提供第一蚀刻步骤，其中第一频率、第二频率、和第三频率位于设定用于第一蚀刻步骤之功率上。于此提供第二蚀刻步骤，其中第一频率、第二频率、和第三频率位在不同的功率设定上。