发明名称 微影装置,元件制造之方法,及其制造之元件
摘要 一种微影投影装置,其包括:一辐射系统,用于提供一辐射投影光束;一支撑结构,用以支撑图案化构件,该等图案化构件系用于根据预期图案来图案化该投影光束;一基板固定器,其包括复数个第一突出部,该等突出部的末端会界定一第一接触表面,用以接触一基板,该基板固定器配备钳止构件,用以将该基板钳止于该第一接触表面之上;以及一投影系统,用于将该已图案化的光束投影至该基板的一目标部份之上。该基板固定器包括复数个第二突出部,该等突出部的远端会界定一第二接触表面,用以支撑该基板,其中该等第二突出部的系排列于该基板被钳止于该第一接触表面之上时让该第二接触表面与该第一接触表面实质相符,而且于该基板未被钳止于该第一接触表面之上时让该晶圆与该第一接触表面分离。
申请公布号 TW200508813 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW093117964 申请日期 2004.06.21
申请人 ASML公司 发明人 捷寇 安德安 鲁朶尔 范 英派尔;RUDOLF;爱恩 罗德克 亨利卡斯 乔汉斯 范 密尔;ASCHWIN LODEWIJK HENDRICUS JOHANNES;孔恩 贾库博 乔汉斯 马利亚 萨尔;JOHANNES MARIA;汤恩 安特捷
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰