| 摘要 |
本发明揭示一支撑旋转安装总成，其用于在一有机金属化学气相沈积(MOCVD)反应器中磊晶层在晶圆上生长期间保持半导体晶圆，该支撑旋转安装装置特别适用于在一反相型反应器腔内安装一支撑旋转装置。该支撑旋转安装装置包括一塔(44)，该塔具有一上和下端(45、43)，将该上端(45)安装到该反应器腔(162)之顶部内表面，并且将一支撑旋转装置(52)设置在该塔之下端(43)。半导体晶圆(68)被保持得靠近该支撑旋转装置(52)，以便使来自该支撑旋转装置(52)之热量进入该晶圆(68)。一根据本发明之支撑旋转安装总成之第二实施例也包括一塔(104)，该塔具有一上端和下端(103、108)。将该塔之上端(103)安装到该反应器腔(162)之顶部内表面。一支撑旋转装置(110)位于一杯(106)内，并且将该杯(106)安装到该塔之下端(108)。 |
