改善光罩关键尺寸均匀度与光罩制程之方法

摘要

一种改善光罩关键尺寸均匀度与光罩制程之方法。本发明至少包括：提供一透明基材，其中此透明基材上至少包括依序堆叠之一遮光层以及一光阻层；图案化上述之光阻层以暴露出遮光层之一预设区域，其中此预设区域沿着欲定义在上述遮光层之一主图案区的轮廓；移除暴露之遮光层直至暴露出部分之透明基材，并在遮光层中定义出主图案区以及一周围区；移除上述之光阻层；以及移除该周围区之该遮光层。