发明名称 降低沉积反应室腔体内氟残留的方法
摘要 本发明提供一种降低沉积反应室腔体内氟残留的方法,包括下列步骤:(a)提供一沉积反应装置,沉积反应装置包括一沉积反应室腔体、一远端电浆产生器、及一射频功率产生器,远端电浆产生器以一第一管线与沉积反应室腔体耦接,射频功率产生器与沉积反应室腔体电性耦接;(b)通入含氟气体至远端电浆产生器以产生含氟电浆,经由第一管线自远端电浆产生器导入含氟电浆至沉积反应室腔体;及(c)通入一含氢气体至远端电浆产生器以产生含氢电浆,经由第一管线自远端电浆产生器导入含氢电浆至沉积反应室腔体,并启动射频功率产生器。
申请公布号 TW200509223 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW092123124 申请日期 2003.08.22
申请人 统宝光电股份有限公司 发明人 林辉巨
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科中路12号