发明名称 | 降低沉积反应室腔体内氟残留的方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种降低沉积反应室腔体内氟残留的方法,包括下列步骤:(a)提供一沉积反应装置,沉积反应装置包括一沉积反应室腔体、一远端电浆产生器、及一射频功率产生器,远端电浆产生器以一第一管线与沉积反应室腔体耦接,射频功率产生器与沉积反应室腔体电性耦接;(b)通入含氟气体至远端电浆产生器以产生含氟电浆,经由第一管线自远端电浆产生器导入含氟电浆至沉积反应室腔体;及(c)通入一含氢气体至远端电浆产生器以产生含氢电浆,经由第一管线自远端电浆产生器导入含氢电浆至沉积反应室腔体,并启动射频功率产生器。 | ||
申请公布号 | TW200509223 | 申请公布日期 | 2005.03.01 |
申请号 | TW092123124 | 申请日期 | 2003.08.22 |
申请人 | 统宝光电股份有限公司 | 发明人 | 林辉巨 |
分类号 | H01L21/205 | 主分类号 | H01L21/205 |
代理机构 | 代理人 | 洪澄文;颜锦顺 | |
主权项 | |||
地址 | 苗栗县竹南镇新竹科学工业园区科中路12号 |