化学机械研磨用之水性分散体及化学机械研磨方法

摘要

本发明有关一种化学机械研磨用水性分散体，包括研磨粒成分(A)、选自羧酸及啶羧酸之至少一种之成分(B)、羧酸及啶羧酸以外之有机酸之成分(C)、及氧化剂之成分(D)，其中成分(B)之含量(WB)与成分(C)之含量(WC)之质量比(WB／WC)为0.01(含)以上且小于2，氨及铵离子所构成之氨成分浓度为0.005莫耳／升(含)以下。该化学机械研磨用水性分散体在对各种被加工层各以高效率研磨之同时，可获得充分平坦化之高精确度之修饰表面。