制造LCD用正型光阻组成物及光阻图型之形成方法POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR MANUFACTURING LCD AND FORMATION METHOD OF RESIST PATTERN

摘要

提供于广阔的基板面全面，可形成无尺寸偏差之微细光阻图型之可制造LCD用之正型光阻组成物。此光阻组成物为光阻膜之B参数值为0.1～0.6。