| 主权项 |
1.一种光学投影显示构件,包括:一光学聚焦结构,具有复数个微光学聚焦元件;以及一光吸收层,位于该光学聚焦结构的焦点附近,且具有复数个光学穿透视窗,该些光学穿透视窗分别与该些微光学聚焦元件相互对应,其中,该些光学穿透视窗系以一光学曝光法所形成。2.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,更包括一光学面板,且该光吸收层系位于该光学聚焦结构与该光学面板之间。3.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括光学曝光显影法。4.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示构件,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。5.如申请专利范围第4项所述之光学投影显示构件,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。6.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一光束;该光束经一曝光投影镜头产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示构件,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。7.如申请专利范围第6项所述之光学投影显示构件,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。8.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该些微光学聚焦元件系用以将一入射光束聚焦于该些光学穿透视窗上。9.如申请专利范围第8项所述之光学投影显示构件,其中该些光学穿透视窗位置系随着该入射光束照射到该光学聚焦结构后聚焦的光点位置而变。10.如申请专利范围第8项所述之光学投影显示构件,其中该些光学穿透视窗之形状系与该入射光束经该光学聚焦结构聚焦后之光道形状相对应。11.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该些光学穿透视窗之材质包括空气介质。12.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该些光学穿透视窗之材质包括光学扩散穿透材料。13.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,其中该些光学穿透视窗之材质包括光学穿透材料。14.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,更包括一光学扩散穿透材料层,位于该光吸收层与该光学聚焦结构之间。15.如申请专利范围第1项所述之光学投影显示构件,更包括一超薄型放大镜,位于该光学聚焦结构之一入光侧。16.如申请专利范围第15项所述之光学投影显示构件,其中该超薄型放大镜之型式包括全像片(Hologram)型式。17.如申请专利范围第15项所述之光学投影显示构件,其中该超薄型放大镜之型式包括菲涅耳透镜(Fresnel lens)型式。18.一种投影光学装置,包括:一光学投影组件,系用以提供一光学影像光束;以及一光学投影显示构件,用以接收来自该光学投影组件之该光学影像光束,其中该光学投影显示构件包括,一光学聚焦结构,具有复数个微光学聚焦元件,及一光吸收层,位于该光学聚焦结构的焦点附近,且具有复数个光学穿透视窗,该些光学穿透视窗分别与该些微光学聚焦元件相互对应,其中,该些光学穿透视窗系以一光学曝光法所形成。19.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,更包括一光学面板,且该光吸收层系位于该光学聚焦结构与该光学面板之间。20.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学投影组件包括一光阀(Light Valve),用以产生该光学影像光束。21.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学投影组件包括:一光阀,用以产生一影像;以及一投影镜头,用以接收该影像并输出该光学影像光束。22.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括光学曝光显影法。23.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示结构,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。24.如申请专利范围第23项所述之投影光学装置,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。25.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一光束;该光束经一曝光投影镜头产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示结构,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。26.如申请专利范围第25项所述之投影光学装置,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。27.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该些光学穿透视窗位置系随着入射之该光学影像光束照射到该光学聚焦结构后聚焦的光点位置而变。28.如申请专利范围第27项所述之投影光学装置,其中该些光学穿透视窗之形状系与该光学影像光束经该光学聚焦结构聚焦后之光道形状相对应。29.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该些光学穿透视窗之材质包括空气介质。30.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该些光学穿透视窗之材质包括光学扩散穿透材料。31.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该些光学穿透视窗之材质包括光学穿透材料。32.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,其中该光学投影显示构件更包括一光学扩散穿透材料层,位于该光吸收层与该光学聚焦结构之间。33.如申请专利范围第18项所述之投影光学装置,更包括一超薄型放大镜,位于该光学聚焦结构之一入光侧。34.如申请专利范围第33项所述之投影光学装置,其中该超薄型放大镜之型式包括全像片型式。35.如申请专利范围第33项所述之投影光学装置,其中该超薄型放大镜之型式包括菲涅耳透镜型式。36.一种投影光学装置,包括:一光学投影组件,系用以提供一光学影像光束;以及一光学投影显示构件,用以接收来自该光学投影组件之该光学影像光束,其中该光学投影显示构件包括,一光学聚焦结构,具有复数个微光学聚焦元件,一光吸收层,系位于该光学聚焦结构的焦点附近,且该光吸收层内具有复数个光学扩散反射视窗,该些光学扩散反射视窗分别与该些微光学聚焦元件之聚焦位置相互对应,其中,该些光学扩散反射视窗系以一光学曝光法所形成。37.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括光学曝光显影法。38.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示构件,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。39.如申请专利范围第38项所述之投影光学装置,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。40.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一光束;该光束经一曝光投影镜头产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示构件,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。41.如申请专利范围第40项所述之投影光学装置,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。42.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该些光学扩散反射视窗位置系随着入射之该光学影像光束照射到该光学聚焦结构后聚焦的光点位置而变。43.如申请专利范围第42项所述之投影光学装置,其中该些光学扩散反射视窗之形状系与该光学影像光束经该光学聚焦结构聚焦后之光道形状相对应。44.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,更包括一超薄型放大镜,位于该光学聚焦结构之一入光侧。45.如申请专利范围第44项所述之投影光学装置,其中该超薄型放大镜之型式包括全像片型式。46.如申请专利范围第44项所述之投影光学装置,其中该超薄型放大镜之型式包括菲涅耳透镜型式。47.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该光学投影组件包括一光阀,用以产生该光学影像光束。48.如申请专利范围第36项所述之投影光学装置,其中该光学投影组件包括:一光阀,用以产生一影像;以及一投影镜头,用以接收该影像并输出该光学影像光束。49.一种光学投影显示构件的制造方法,包括:提供一光学聚焦结构,且该光学聚焦结构上形成有复数个微光学聚焦元件;于该光学聚焦结构的焦点附近形成一光敏感材料层;进行一光学曝光显影步骤,于该光敏感材料层中形成复数个第一图案;以及移除部分该光敏感材料层,以于该光敏感材料层内形成复数个第一图案区块。50.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该光学曝光显影步骤包括:以一曝光光源产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光敏感材料层,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。51.如申请专利范围第50项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。52.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该光学曝光显影步骤包括:以一曝光光源产生一光束;该光束经一曝光投影镜头产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光敏感材料层,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。53.如申请专利范围第52项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。54.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,更包括于该些第一图案区块中形成一第一材料层。55.如申请专利范围第54项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该光敏感材料层之材质包括光吸收物质。56.如申请专利范围第55项所述之光学投影显示构件的制造方法,更包括于该第一材料层及该光敏感材料层上形成一光学面板。57.如申请专利范围第55项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学扩散穿透材料层。58.如申请专利范围第55项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学穿透材料层。59.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中在形成该光敏感材料层之步骤前更包括于该光学聚焦结构上形成一光学扩散穿透材料层,且该光学扩散穿透材料层位于该光敏感材料层与该光学聚焦结构之间。60.如申请专利范围第55项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学扩散反射材料层。61.如申请专利范围第54项所述之光学投影显示构件的制造方法,更包括:移除该光敏感材料层,以形成复数个第二图案区块;以及于该些第二图案区块中形成一第二材料层。62.如申请专利范围第61项所述之光学投影显示构件的制造方法,更包括于该第一材料层及该第二材料层上形成一光学面板。63.如申请专利范围第61项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第二材料层包括光吸收物质层。64.如申请专利范围第63项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学扩散穿透材料层。65.如申请专利范围第63项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学穿透材料层。66.如申请专利范围第63项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光学扩散反射材料层。67.如申请专利范围第61项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第一材料层包括光吸收物质层。68.如申请专利范围第67项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第二材料层包括光学扩散穿透材料层。69.如申请专利范围第67项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第二材料层包括光学穿透材料层。70.如申请专利范围第67项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该第二材料层包括光学扩散反射材料层。71.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该光学曝光显影步骤包括:于一预设使用光源位置上提供一曝光光源;以及以该曝光光源照射该光学聚焦结构并聚焦于该光敏感材料层。72.如申请专利范围第71项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。73.如申请专利范围第71项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该曝光光源包括UV光源。74.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中移除部分该光敏感材料层的步骤系移除已曝光之该光敏感材料层。75.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中移除部分该光敏感材料层的步骤系移除未曝光之该光敏感材料层。76.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该些微光学聚焦元件系形成于该光学聚焦结构之一第一表面上。77.如申请专利范围第76项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该光敏感材料层系形成于该光学聚焦结构之一第二表面上,且该第二表面系与该第一表面相对应。78.如申请专利范围第49项所述之光学投影显示构件的制造方法,更包括于该光学聚焦结构之一入光侧形成一超薄型放大镜。79.如申请专利范围第78项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该超薄型放大镜之型式包括全像片型式。80.如申请专利范围第78项所述之光学投影显示构件的制造方法,其中该超薄型放大镜之型式包括菲涅耳透镜型式。81.一种光学投影显示构件,包括:一光学聚焦结构,具有复数个微光学聚焦元件;以及一光吸收层,位于该光学聚焦结构的焦点附近,且具有复数个光学扩散反射窗,该些光学扩散反射窗分别与该些微光学聚焦元件相互对应,其中,该些光学扩散反射窗系以一光学曝光法所形成。82.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括光学曝光显影法。83.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,其中该些光学扩散反射窗位置系随着入射之一光束照射到该光学聚焦结构后聚焦的光点位置而变。84.如申请专利范围第83项所述之光学投影显示构件,其中该些光学扩散反射窗之形状系与入射之该光束照射到该光学聚焦结构后聚焦之光道形状相对应。85.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,更包括一超薄型放大镜,位于该光学聚焦结构之一入光侧。86.如申请专利范围第85项所述之光学投影显示构件,其中该超薄型放大镜之型式包括全像片型式。87.如申请专利范围第85项所述之光学投影显示构件,其中该超薄型放大镜之型式包括菲涅耳透镜型式。88.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,其中该些光学扩散反射窗之材质包括光学扩散反射材料。89.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,更包括一光学扩散穿透材料层,位于该光吸收层与该光学聚焦结构之间。90.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示结构,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。91.如申请专利范围第90项所述之光学投影显示构件,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。92.如申请专利范围第81项所述之光学投影显示构件,其中该光学曝光法包括:以一曝光光源产生一光束;该光束经一曝光投影镜头产生一曝光光束;以及将该曝光光束投射至该光学投影显示结构,且该曝光光束角度与一实际光学投影显示影像来源光束的角度大致相等。93.如申请专利范围第92项所述之光学投影显示构件,其中该曝光光源系选自点光源、线光源所组成之族群其中之一。图式简单说明:第1图系绘示习知之显示萤幕的局部示意图。第2图系绘示光源以角入射至第1图之显示萤幕的示意图。第3图系绘示习知之投影光学装置的示意图。第4图系绘示本发明之显示构件的局部示意图。第5A图至第5C图系绘示本发明之第一较佳实施例的显示构件的制造流程示意图。第6图系绘示本发明之一较佳实施例的投影光学装置的示意图。第7A图至第7E图系绘示本发明之第二较佳实施例的显示构件的制造流程示意图。第8A图系绘示本发明之第三较佳实施例的显示构件的局部示意图。第8B图系绘示光源以角入射至第8A图之显示构件的示意图。第9图系绘示本发明之第一较佳实施例之投影光学装置的另一实例的示意图。第10图系绘示本发明之投影光学装置的另一实例的示意图。 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