电浆处理装置中用于平衡返回电流之方法

摘要

一电浆处理反应器包括一处理室及一基板支撑架。该处理室包括一开口，其延伸经过该处理室的侧壁。该基板支撑架为可移动地固定在处理室内。该处理室的开口大到足以容许透过该开口从处理室中移除该基板支撑架。处理室内壁的一部份表面及基板支撑架具有一涂层。该涂层由一电阻材料制成。该涂层产生一沿该内侧壁部份表面的阻抗，否则该表面载运一比该处理室对侧更大的部份RF返回电流。该涂层也产生一沿该基板支撑架的阻抗，致使沿该处理室内壁表面的RF返回电流之密度实质上更为均匀。