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经营范围
发明名称
洗净处理方法及洗净处理装置
摘要
〔课题〕提供可降低使用的洗净液的液量,且可得到高的洗净度的洗净处理方法及洗净处理装置。〔解决装置〕具有:藉由传送装置将板状的被处理物3传送于架台5上,对该被处理物3的至少一表面实施亲水处理的第一制程;在前述被处理物3的被亲水处理的面形成液膜24a的第二制程;以及由配设于可接触于形成于前述被处理物3的表面的前述液膜24a附近的超音波振荡面28c,对被处理物3照射超音波能量而洗净的第三制程。
申请公布号
TW200507953
申请公布日期
2005.03.01
申请号
TW092122697
申请日期
2003.08.19
申请人
华祥股份有限公司
发明人
齐藤俊介;冈野胜一;金塚薰
分类号
B08B3/12;H01L21/00
主分类号
B08B3/12
代理机构
代理人
何金涂;何秋远
主权项
地址
日本
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