发明名称 洗净处理方法及洗净处理装置
摘要 〔课题〕提供可降低使用的洗净液的液量,且可得到高的洗净度的洗净处理方法及洗净处理装置。〔解决装置〕具有:藉由传送装置将板状的被处理物3传送于架台5上,对该被处理物3的至少一表面实施亲水处理的第一制程;在前述被处理物3的被亲水处理的面形成液膜24a的第二制程;以及由配设于可接触于形成于前述被处理物3的表面的前述液膜24a附近的超音波振荡面28c,对被处理物3照射超音波能量而洗净的第三制程。
申请公布号 TW200507953 申请公布日期 2005.03.01
申请号 TW092122697 申请日期 2003.08.19
申请人 华祥股份有限公司 发明人 齐藤俊介;冈野胜一;金塚薰
分类号 B08B3/12;H01L21/00 主分类号 B08B3/12
代理机构 代理人 何金涂;何秋远
主权项
地址 日本