发明名称 PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA EL TRATAMIENTO DE COMPONENTES DISPUESTOS SOBRE UN SUBSTRATO, ESPECIALMENTE DE CHIPS DE SEMICONDUCTORES.
摘要 Procedimiento para el tratamiento de componentes electrónicos (1) dispuestos sobre un substrato (2), en el que los componentes son colocados sobre el substrato y son impulsados por una herramienta (3) para la unión duradera con el substrato, dado el caso, utilizado un adhesivo y son sometidos a una presión de prensado y, dado el caso, a un tratamiento térmico, siendo colocados sobre el substrato varios componentes unos detrás de otros para formar un grupo (4) y siendo sometido a continuación todo el grupo al mismo tiempo a la presión de prensado y, dado el caso, al tratamiento térmico.
申请公布号 ES2224501(T3) 申请公布日期 2005.03.01
申请号 ES19990112660T 申请日期 1999.07.02
申请人 ALPHASEM AG 发明人 WIRZ, GUSTAV
分类号 H01L21/00;H01L21/56;H01L23/31;(IPC1-7):H01L21/00 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
主权项
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