发明名称 |
Sistema de deposição de material, revestimento e método de revestimento de uma primeira área superficial de um objeto |
摘要 |
"SISTEMA DE DEPOSIçãO DE MATERIAL, REVESTIMENTO E MéTODO DE REVESTIMENTO DE UMA PRIMEIRA áREA SUPERFICIAL DE UM OBJETO". São providos métodos e aparelhos para inflamar, modular e sustentar um plasma para diversos processos de revestimento. Numa modalidade, a superfície de um objeto pode ser revestida pela formação de um plasma em uma cavidade submetendo um gás a uma quantidade de energia de radiação eletromagnética na presença de um catalisador de plasma e adicionando pelo menos um material de revestimento ao plasma. O material é deixado depositar na superfície do objeto para formar um revestimento. São também providos diversos catalisadores de plasma. |
申请公布号 |
BR0309812(A) |
申请公布日期 |
2005.03.01 |
申请号 |
BR20030309812 |
申请日期 |
2003.05.07 |
申请人 |
DANA CORPORATION |
发明人 |
DEVENDRA KUMAR;SATYENDRA KUMAR |
分类号 |
B01J7/00;A62D3/00;B01D53/86;B01D53/92;B01J19/08;B01J19/12;B01J37/34;B22F3/105;C01B3/02;C21D1/06;C21D1/09;C21D1/38;C22B4/00;F01N3/08;F01N3/10;F01N3/20;F01N3/24;F01N3/28;F01N3/30;F01N9/00;F01N13/10;F27B17/00;F27D3/12;F27D11/08;F27D11/12;G21K5/00;H01J37/32;H01M8/06;H05B6/68;H05B6/78;H05B6/80;H05H1/24;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;C23C16/48;C23C16/452;C23C16/455;C23C16/517;C23C14/02 |
主分类号 |
B01J7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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