发明名称 Sistema de deposição de material, revestimento e método de revestimento de uma primeira área superficial de um objeto
摘要 "SISTEMA DE DEPOSIçãO DE MATERIAL, REVESTIMENTO E MéTODO DE REVESTIMENTO DE UMA PRIMEIRA áREA SUPERFICIAL DE UM OBJETO". São providos métodos e aparelhos para inflamar, modular e sustentar um plasma para diversos processos de revestimento. Numa modalidade, a superfície de um objeto pode ser revestida pela formação de um plasma em uma cavidade submetendo um gás a uma quantidade de energia de radiação eletromagnética na presença de um catalisador de plasma e adicionando pelo menos um material de revestimento ao plasma. O material é deixado depositar na superfície do objeto para formar um revestimento. São também providos diversos catalisadores de plasma.
申请公布号 BR0309812(A) 申请公布日期 2005.03.01
申请号 BR20030309812 申请日期 2003.05.07
申请人 DANA CORPORATION 发明人 DEVENDRA KUMAR;SATYENDRA KUMAR
分类号 B01J7/00;A62D3/00;B01D53/86;B01D53/92;B01J19/08;B01J19/12;B01J37/34;B22F3/105;C01B3/02;C21D1/06;C21D1/09;C21D1/38;C22B4/00;F01N3/08;F01N3/10;F01N3/20;F01N3/24;F01N3/28;F01N3/30;F01N9/00;F01N13/10;F27B17/00;F27D3/12;F27D11/08;F27D11/12;G21K5/00;H01J37/32;H01M8/06;H05B6/68;H05B6/78;H05B6/80;H05H1/24;H05H1/46;(IPC1-7):H05H1/46;C23C16/48;C23C16/452;C23C16/455;C23C16/517;C23C14/02 主分类号 B01J7/00
代理机构 代理人
主权项
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