发明名称 METODO Y DISPOSITIVO DE DESPLAZAMIENTO DE FASE EN LA FABRICACION DE UN CIRCUITO.
摘要 PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA CREAR UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y UNA MASCARA DE ESTRUCTURA PARA CONTRAER LOS DISEÑOS DE CIRCUITOS INTEGRADOS. UNA REALIZACION DE LA INVENCION INCLUYE UTILIZAR UN PROCESO DE DOS MASCARAS. LA PRIMERA MASCARA ES UNA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO EN FASE Y LA SEGUNDA ES UNA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE. LA MASCARA DE DESPLAZAMIENTO DE FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE REQUIEREN DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE DEFINE PRINCIPALMENTE LAS ZONAS QUE NO PRECISAN DEL DESPLAZAMIENTO DE FASE. LA MASCARA CON ESTRUCTURA DE UNA SOLA FASE PREVIENE TAMBIEN QUE SE BORREN LAS ZONAS DE DESPLAZAMIENTO DE FASE Y EVITA LA CREACION DE ZONAS DE ARTEFACTOS NO DESEABLES QUE SE CREARIAN EN CASO CONTRARIO MEDIANTE LA MASCARA CON DESPLAZAMIENTO DE FASE. AMBAS MASCARAS SE DERIVAN DE UN CONJUNTO DE MASCARAS UTILIZADAS EN TECNOLOGIA CON UN PROCESO DE DIMENSIONES MINIMAS MAYOR.
申请公布号 ES2224270(T3) 申请公布日期 2005.03.01
申请号 ES19970941699T 申请日期 1997.09.18
申请人 NUMERICAL TECHNOLOGIES, INC. 发明人 WANG, YAO-TING;PATI, YAGYENSH, C.
分类号 G03F1/00;G03F7/20;G06F17/50 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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