| 发明名称 |
LASER IRRADIATION METHOD AND LASER IRRADIATION APPARATUS, AND METHOD FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
SG108878(A1) |
申请公布日期 |
2005.02.28 |
| 申请号 |
SG20020006438 |
申请日期 |
2002.10.23 |
| 申请人 |
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. |
发明人 |
SHUNPEI YAMAZAKI;KOICHIRO TANAKA |
| 分类号 |
H01L21/20;H01L21/268;(IPC1-7):H01L21/268;G02B26/10;B23K26/08 |
主分类号 |
H01L21/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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