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发明名称 PROCESS FOR PREVENTING FORMATION OF PHOTORESIST SCUM
摘要
申请公布号 SG108897(A1) 申请公布日期 2005.02.28
申请号 SG20030000141 申请日期 2003.01.23
申请人 TAIWAN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CO., LTD 发明人 TIEN-I BAO;LAIN-JONG LI;SHWANG-MING JENG;SYUN-MING JANG
分类号 H01L21/00;H01L21/02;H01L21/34;H01L21/46;H01L21/461;H01L21/4763;(IPC1-7):H01L21/476 主分类号 H01L21/00
代理机构 代理人
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