Selbstausgerichtete Maske zum Verringern der Zellenlayoutfläche

摘要

Selbstausgerichtete Durchführungen und Gräben, die zwischen benachbarte Metallisierungsleitungen geätzt wurden, ermöglichen es, die Fläche des dielektrischen Substrats, die der Durchführung oder dem Graben zugeordnet ist, deutlich zu verkleinern, ohne dass die Möglichkeit elektrischer Kurzschlüsse zu den benachbarten Metallisierungsleitungen zunimmt.