| 摘要 |
重复进行以下制程：即根据既定曝光条件下调整装置之调整资讯及对应此调整资讯之该投影光学系统之成像性能资讯、图案修正资讯及成像性能之容许范围资讯等，就每一曝光装置算出修正图案之目标曝光条件下之适当调整量的制程(步骤114～118)；与根据所算出之各曝光装置之适当调整量之调整装置之调整结果，在目标曝光条件下，当至少1台曝光装置有在容许范围外之成像性能时，根据该成像性能，依照既定基准来设定该修正资讯的制程(步骤120，124，126)；直到所有装置之成像性能皆在容许范围内。然后，当在容许范围内时，将所设定之修正资讯决定为图案之修正资讯(步骤138)。 |
