发明名称 微影装置及元件制造方法
摘要 本发明提供一种微影装置,其中藉由透过具有小于7之pH值之水溶液进行投影来执行曝光,该溶液与待曝光之基板接触。水溶液最好为抗反射顶覆层(topcoat)溶液。
申请公布号 TW200507445 申请公布日期 2005.02.16
申请号 TW093113874 申请日期 2004.05.17
申请人 ASML公司 发明人 包博 斯崔夫克;马歇尔 玛堤斯 塞多尔 玛里 戴雷期;MATHIJS THEODORE MARIE;温蒂 法兰西斯卡 乔汉纳 吉何 范 安慎;, WENDY FRANSISCA JOHANNA
分类号 H03F1/00 主分类号 H03F1/00
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰
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