发明名称 |
清洁组成物,清洁半导体基板的方法,以及在半导体基板上形成线路的方法 |
摘要 |
一种清洁组成物,其包含:四级氢氧化铵;水溶性有机溶剂;水;抗腐蚀剂;及占溶液总量1质量百分比或更低的氢氧化钾。 |
申请公布号 |
TW200506046 |
申请公布日期 |
2005.02.16 |
申请号 |
TW093117540 |
申请日期 |
2004.06.17 |
申请人 |
东京应化工业股份有限公司;英特尔股份有限公司 INTEL CORPORATION 美国 |
发明人 |
横井滋;屋和正;原口高之;马克雷 休斯恩;蓝那 强;夏克理斯多夫 克拉克 |
分类号 |
C11D7/06 |
主分类号 |
C11D7/06 |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |