发明名称 清洁组成物,清洁半导体基板的方法,以及在半导体基板上形成线路的方法
摘要 一种清洁组成物,其包含:四级氢氧化铵;水溶性有机溶剂;水;抗腐蚀剂;及占溶液总量1质量百分比或更低的氢氧化钾。
申请公布号 TW200506046 申请公布日期 2005.02.16
申请号 TW093117540 申请日期 2004.06.17
申请人 东京应化工业股份有限公司;英特尔股份有限公司 INTEL CORPORATION 美国 发明人 横井滋;屋和正;原口高之;马克雷 休斯恩;蓝那 强;夏克理斯多夫 克拉克
分类号 C11D7/06 主分类号 C11D7/06
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本