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发明名称
单结晶之制造方法
摘要
本发明提供一种单结晶之制造方法,其特征为:于藉由施加磁场的丘克拉斯基法(Czochralski method)来制造单结晶的方法中,至少将收容在坩埚中之熔融液内的最小磁场强度设在2000G以上的范围,将熔融液内的最大磁场强度设在6000G以下的范围,而且将最大与最小磁场强度的差除以其距离的值亦即最大磁场斜率设在55G/cm以下的范围,来提拉单结晶。藉此方式,可提供一种在施加磁场的丘克拉斯基法中,可生产力良好地制造出高品质之单结晶的方法。
申请公布号
TW200506114
申请公布日期
2005.02.16
申请号
TW093110110
申请日期
2004.04.12
申请人
信越半导体股份有限公司
发明人
园川将;星亮二;森达生
分类号
C30B15/00
主分类号
C30B15/00
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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