焦点监视用光罩之制造方法及半导体装置之制造方法

摘要

本发明系提供一种可使用荷电射束，以短时间形成高精度之监视标志的焦点监视用光罩之制造方法。本发明包含于透光性基板1之表面区域形成第1开口部以及具有与第1开口部相对应之图案形状，且由透光性基板上之半色调膜2与半色调膜上之遮光膜3的叠层膜所包围的第2开口部21之步骤；及将荷电射束52照射于包含第2开口部之边缘部分、第2开口部之内侧部分及第2开口部之外侧部分的第1区域，将第2开口部内侧之透光性基板蚀刻的步骤。