抛光垫装置及方法

摘要

本发明揭示一种抛光垫，其具有一在平整晶圆表面时可获得高度平整效率之表面形貌。一经过调整之抛光垫为非多孔性，且具有一表面粗糙度Ra＜3微米之表面高度分布。另一经过调整之抛光垫系多孔性，且具有一垫表面高度比R≧60％之表面高度概率分布，或亦可具有一以非对称因数A10≦0.50为特征之非对称表面高度概率分布。本发明同时还揭示一种用于调节该抛光垫及利用该抛光垫平整晶圆之方法。