发明名称 微影装置,基板支架,及制造方法
摘要 本发明揭示一种微影投影装置,其包括:一用于提供辐射之投影光束之辐射系统;一用于支撑图案化构件之支撑结构,该图案化构件用于根据所要图案来图案化该投影光束;一包括复数个突起部分之基板固持器,该等突起部分之末端(extremity)界定一用于支撑一大体平直的基板之大体平直的支撑平面,该基板固持器具有提供用于将该基板挤压在该等突起部分之末端之挤压力的构件;将位于该基板固持器边缘区之突起部分进行配置,以相对于挤压构件之挤压力对该基板提供大体平直的垂悬;及一用于将该图案化光束投影至该基板之目标部分上的投影系统。该微影投影装置之特征在于:将该基板固持器之离边缘区(off–edge zone)之该等突起部分进行分布,以便为该等复数个突起部分中之每一突起部分提供大体相等的支撑区域,该等支撑区域由与该等突起部分相关联之Voronoi图分布所界定。根据本发明之微影装置提供一具有减少的重叠与聚焦误差之基板固持器。
申请公布号 TW200507047 申请公布日期 2005.02.16
申请号 TW093112697 申请日期 2004.05.05
申请人 ASML公司 发明人 孔恩 贾库博 乔汉斯 马利亚 萨尔;JOHANNES MARIA;捷寇 安德安 鲁朶尔 范 英派尔;RUDOLF;菊斯特 捷恩 欧邓
分类号 H01L21/02;H01L21/68 主分类号 H01L21/02
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰