用于对准或覆盖以校正图案感应位移之标记器结构,用于界定此标记器结构之遮罩图案,以及利用此遮罩图案之微影投影装置

摘要

本发明提供一种用于在微影投影中将一标记器结构成像至一基板上之遮罩图案，该在使用中配置用于判定光学对准或覆盖之标记器结构包括用以界定该标记器结构之组成部分，该等组成部分系分段为复数个分段的元件(EL；ML)，该等分段的元件各自大体上具有一器件特征之尺寸，该遮罩图案包括每一分段的元件(EL；ML)之区段形状(segment shape)，其中用于标记器结构之遮罩图案包含至少一辅助特征(EL_sub)，该至少一辅助特征位于区段形状之一关键部分处，用于抵消微影投影中产生于该关键部分处的光学像差或光学限制，该至少一辅助特征(EL_sub)具有大体上小于微影投影之解析度之尺寸。