发明名称 排气净化方法、排气净化装置及其所使用的除尘装置
摘要 一种排气净化方法及排气净化装置及其所使用的除尘装置,在成膜装置等半导体或者液晶模组的制造装置中产生的排气的净化工序中,可以减少维护作业,或者使其维护作业的安全性提高。其包括:排气的燃烧处理工序;从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序;及,将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。通过该方法,通过除尘工序除去含有Si的粉尘,因此,可以抑制洗涤工序中析出物的析出。因此,使工序稳定运转,并且减少维护作业。另外,不需要大量洗涤水就可以实施洗涤工序。
申请公布号 CN1582195A 申请公布日期 2005.02.16
申请号 CN02813416.8 申请日期 2002.07.03
申请人 松下电器产业株式会社;松下环境空调工程株式会社 发明人 爱甲雅彦;林和幸;土本利明;泽田博明;中川秋夫
分类号 B01D46/04;B01D47/06;B01D53/68;F23G7/06;F23J15/00 主分类号 B01D46/04
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 汪惠民
主权项 1.一种排气净化方法,是含有Si成分的排气的净化方法,其特征在于:包括排气的燃烧处理工序;从由燃烧处理生成的燃烧排气中除去含有Si的粉尘的除尘工序;及将除尘后的燃烧排气进行水性洗涤的洗涤工序。
地址 日本大阪府