| 发明名称 | 模版形成方法 | ||
| 摘要 | 一种模版形成方法，其用以形成一模版，且包括下列步骤：于一基版上涂布一光阻层；于光阻层上形成一图案化的半遮蔽层(patterned semi－blocked layer)；以一光束曝光光阻层，其中半遮蔽层削减光束的能量以部分遮蔽此光束；显影光阻层；以及朝光阻层的方向溅镀一金属层。 | ||
| 申请公布号 | CN1581325A | 申请公布日期 | 2005.02.16 |
| 申请号 | CN03149603.2 | 申请日期 | 2003.08.01 |
| 申请人 | 精碟科技股份有限公司 | 发明人 | 赖元章 |
| 分类号 | G11B7/26 | 主分类号 | G11B7/26 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟;王初 |
| 主权项 | 1.一种模版形成方法，其用以形成一模版，其特征在于，包含：于一基版上涂布一光阻层；于该光阻层上形成一图案化的半遮蔽层；以一光束曝光该光阻层，其中该半遮蔽层削减该光束的能量以部分遮蔽该光束；显影该光阻层；以及朝该光阻层的方向溅镀一金属层。 | ||
| 地址 | 台湾省台北县 | ||