发明名称 |
一种光致抗蚀剂组合物以及由它形成的结构和形成方法 |
摘要 |
可使用193nm射线(且可能使用其它射线)成象与显影以形成具有改进的显影特性与改进的抗蚀力的光致抗蚀剂结构的酸催化正性光致抗蚀剂组合物可通过使用包括环烯聚合物的抗蚀剂组合物而实现,此聚合物包括含有内酯部分的环烯单体,此单体在插入在内酯部分与环烯的一环之间没有氧原子。优选的内酯部分是同环烯的一环直接结合的螺甾内酯(有一个5或6节的环)。 |
申请公布号 |
CN1189792C |
申请公布日期 |
2005.02.16 |
申请号 |
CN01117158.8 |
申请日期 |
2001.04.27 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
托马斯·I·沃洛;罗伯特·D·阿伦;菲利普·J·布洛克;理查德·A·迪彼特罗;伊藤洋;霍·D·翁;普什卡拉·R·瓦雷那斯 |
分类号 |
G03F7/039;G03F7/027 |
主分类号 |
G03F7/039 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王以平 |
主权项 |
1.一种光致抗蚀剂组合物,包括(a)环烯聚合物与(b)光敏产酸剂,所述环烯聚合物包括:i)环烯单体单元,每个有在水碱性溶液中抑制溶度的酸不稳定部分,与ii)环烯单体单元,每个有一个内酯部分,其中在插入在所述内酯部分与环烯的一环之间的任何部分中没有氧原子。 |
地址 |
美国纽约 |