| 发明名称 | 抛光组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种抛光组合物，它更适合用于磁盘基片的抛光。抛光组合物含有：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。微纹消除剂是一种还原剂，它含以下组中选出的至少一种：膦酸、亚膦酸、连二磷酸铵、硫酸铵、硫酸钠、对苯二酚、焦酚、异抗坏血酸、异抗坏血酸钠、L－抗坏血酸、蚁酸、蚁酸钠、蚁酸铵、草酸、草酸铵、碘酸铵以及五倍子酸。 | ||
| 申请公布号 | CN1576339A | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
| 申请号 | CN200410062868.0 | 申请日期 | 2004.07.02 |
| 申请人 | 福吉米株式会社 | 发明人 | 神谷知秀;横道典孝;大胁寿树 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 上海市华诚律师事务所 | 代理人 | 徐申民;董红曼 |
| 主权项 | 1.一种抛光组合物，其特征在于，包含：研磨剂、微纹消除剂、氧化剂、抛光促进剂、以及水。 | ||
| 地址 | 日本爱知县 | ||