| 发明名称 | 用于平板显示器的像差可校正大视场投影光学系统 | ||
| 摘要 | 一种用于制作平板显示器(FPD)的曝光系统，包括适宜支承掩模版的掩模版台。一个基板台，适宜支承基板。一个反射光学系统，适宜把掩模版成像在基板上。该反射光学系统包括：包含第一反射镜及第二反射镜的主反射镜，和副反射镜。当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射，投射在基板上时，该反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正三级像差。 | ||
| 申请公布号 | CN1577102A | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
| 申请号 | CN200410061767.1 | 申请日期 | 2004.06.30 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 罗伯特·D·哈恩德;帕特里克·得·加格;桂程群 |
| 分类号 | G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 蒋世迅 |
| 主权项 | 1.一种用于制作平板显示器(FPD)的曝光系统，包括：适宜支承掩模版的掩模版台；适宜支承基板的基板台；适宜把所述掩模版成像在所述基板上的反射光学系统，所述反射光学系统包括主反射镜和副反射镜，主反射镜包含第一反射镜和第二反射镜，其中，当把掩模版的像通过第一反射镜、副反射镜、和第二反射镜的反射，投射在基板上时，所述反射光学系统有足够的自由度用于调整和校正像差。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||