发明名称 | 一种染液自动侦测回馈装置 | ||
摘要 | 本实用新型是一种染液自动侦测回馈装置,包括:一染槽,其内储存一染液;一侦测装置,经由路径连接染槽,自动取样染槽内的染液并检测取样的染液中溶质的浓度;一染液母液储存槽,经由路径连接染槽,其内储存染液的母液并将母液导入染槽,以调整染槽内染液中的溶质的浓度;一加药控制装置,其输入连接侦测装置,其输出连接染液母液储存槽,根据侦测装置侦测的染槽内染液中溶质的浓度,控制染液母液储存槽流入染槽的母液数量。因此,藉由染液自动侦测回馈装置的自动化设备可有效控制染槽内染液中溶质的浓度。 | ||
申请公布号 | CN2677950Y | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
申请号 | CN200320102570.9 | 申请日期 | 2003.11.04 |
申请人 | 力特光电科技股份有限公司 | 发明人 | 陈世明;郑尧中;王宜屏 |
分类号 | G02B5/30;G02B5/00 | 主分类号 | G02B5/30 |
代理机构 | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 孙皓晨;王国权 |
主权项 | 1、一种染液自动侦测回馈装置,其特征在于包括:一染槽,其内储存一染液;一侦测装置,经由路径连接染槽,自动取样染槽内的染液并检测取样的染液中溶质的浓度;一染液母液储存槽,经由路径连接染槽,其内储存染液的母液并将母液导入染槽,以调整染槽内染液中的溶质的浓度;以及一加药控制装置,其输入连接侦测装置,其输出连接染液母液储存槽,并根据侦测装置侦测的染槽内染液中溶质的浓度,控制染液母液储存槽流入染槽的母液数量。 | ||
地址 | 中国台湾 |