发明名称 薄膜电容元件用组合物、高电容率绝缘膜、薄膜电容元件和薄膜叠层电容器
摘要 本发明是在基板4上依次形成了下部电极6、电介质薄膜8和上部电极10的薄膜电容器2。电介质薄膜8由薄膜电容元件用组合物构成,该薄膜电容元件用组合物具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,该铋层状化合物用组成式:(Bi<SUB>2</SUB>O<SUB>2</SUB>)<SUP> 2+</SUP> (A<SUB>m-1</SUB>B<SUB>m</SUB>O<SUB>3m+1</SUB>)<SUP> 2-</SUP>或Bi<SUB>2</SUB>A<SUB>m-1</SUB>B<SUB>m</SUB>O<SUB>3m+3</SUB>表示,上述组成式中的符号m为奇数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。即使减薄也具有比较高的电容率并且损耗低,漏电特性优良,耐电压提高,电容率的温度特性优良,表面平滑性也优良。
申请公布号 CN1578994A 申请公布日期 2005.02.09
申请号 CN02821456.0 申请日期 2002.08.26
申请人 TDK株式会社 发明人 坂下幸雄;舟洼浩
分类号 H01G4/12;H01L27/10 主分类号 H01G4/12
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;郭广迅
主权项 1.一种薄膜电容元件用组合物,具有c轴相对于基板面垂直取向的铋层状化合物,其特征在于,该铋层状化合物用组成式:(Bi2O2)2+(Am-1BmO3m+1)2-或Bi2Am-1BmO3m+3表示,上述组成式中的符号m为奇数,符号A为选自Na、K、Pb、Ba、Sr、Ca和Bi的至少1种元素,符号B为选自Fe、Co、Cr、Ga、Ti、Nb、Ta、Sb、V、Mo和W的至少1种元素。
地址 日本东京都