| 发明名称 | 溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供通过型锻制造的溅射靶，其特征在于，平均结晶粒径最大的部分的平均结晶粒径D与平均结晶粒径最小的部分的平均结晶粒径d的关系为1.0＜D/d＜2.0。另外提供通过改良和钻研锻造工序和热处理工序，使结晶粒径微细和均匀，可以稳定制造特性优异的溅射靶的方法，以及由该方法得到的品质优异的溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN1578849A | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
| 申请号 | CN02821545.1 | 申请日期 | 2002.07.30 |
| 申请人 | 株式会社日矿材料 | 发明人 | 福岛笃志 |
| 分类号 | C23C14/34;C22F1/18 | 主分类号 | C23C14/34 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 樊卫民;杨青 |
| 主权项 | 1.一种通过型锻制造的溅射靶，其中，平均结晶粒径最大的部分的平均结晶粒径D与平均结晶粒径最小的部分的平均结晶粒径d的关系是1.0＜D/d＜2.0。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||