| 发明名称 | 薄膜装置的制造方法、晶体管的制造方法、电光装置及电子设备 | ||
| 摘要 | 本发明是一种在基体材料上形成具有多个层的薄膜装置的制造方法，其特征在于，形成多个层中的至少一层的工序，具有：使喷出包含所述一层的构成成分的液态材料的喷嘴与基体材料的相对位置移动的工序，和将液态材料从喷嘴向基体材料喷出的工序。在成膜室(110)内由喷嘴将液态材料喷出并涂敷于基板，形成薄膜。该基板经第一热处理部(103A)、第二热处理部(103B)的热处理，能够提高膜的结晶性、致密性、以及与其它膜的紧密接合性。 | ||
| 申请公布号 | CN1579009A | 申请公布日期 | 2005.02.09 |
| 申请号 | CN03801384.3 | 申请日期 | 2003.04.21 |
| 申请人 | 精工爱普生株式会社 | 发明人 | 汤田坂一夫;下田达也;古泽昌宏 |
| 分类号 | H01L21/20;H01L21/208;H01L21/316;H01L29/78;B05D7/00 | 主分类号 | H01L21/20 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1.一种薄膜装置的制造方法，是在基体材料上形成具有多个层的薄膜装置的薄膜装置的制造方法，其特征在于：具有形成所述多个层中的至少一层的工序；该工序具有使喷出包含所述一层的构成成分的液态材料的喷嘴与所述基体材料的相对位置移动的工序，和将所述液态材料从所述喷嘴向所述基体材料喷出的工序。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||