摘要 |
Hohlräume werden so ausgebildet, dass sie sich von der Seite einer hinteren Oberfläche eines Basismaterials zu einem Schutzfilm erstrecken, ein elektrisch isolierender Film wird auf einer hinteren Oberfläche des Basismaterials ausgebildet, auf Wandoberflächen der Hohlräume, und freiliegenden Oberflächen des Schutzfilms, und ein Heizwiderstandsabschnitt und ein Fluidtemperatur-Widerstandsthermometerabschnitt werden auf Abschnitten des elektrisch isolierenden Films auf den freiliegenden Oberflächen des Schutzfilms innerhalb der Hohlräume hergestellt. Weiterhin werden Leitungsmuster auf dem elektrisch isolierenden Film so ausgebildet, dass sie sich von Endabschnitten des Heizwiderstandsabschnitts und des Fluidtemperatur-Widerstandsthermometerabschnitts entlang den Wandoberflächen der Hohlräume auf die hintere Oberfläche des Basismaterials erstrecken.
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