| 发明名称 |
Anordnung zur Debrisreduktion bei einer Strahlungsquelle auf Basis eines Plasmas |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE10308174(A8) |
申请公布日期 |
2005.02.03 |
| 申请号 |
DE20031008174 |
申请日期 |
2003.02.24 |
| 申请人 |
XTREME TECHNOLOGIES GMBH |
发明人 |
TRAN, DUC CHINH;KLEINSCHMIDT, JUERGEN |
| 分类号 |
G03B27/72;G03F7/20;(IPC1-7):H05G2/00;G21K1/02 |
主分类号 |
G03B27/72 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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