| 发明名称 | 正型抗蚀剂组合物及抗蚀图案的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用可增大碱溶性的树脂成分(A)、和通过曝光可产生酸的酸产生剂成分(B)，其特征在于上述(A)成分中含有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)、和下记通式(I)所示的由(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a2)，上述(B)成分中作为主要成分含有重氮甲烷类酸产生剂。根据本发明可以提供一种可改善抗蚀图案侧壁的驻波态的正型抗蚀剂组合物、以及使用该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案的形成方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1573550A | 申请公布日期 | 2005.02.02 |
| 申请号 | CN200410045257.5 | 申请日期 | 2004.06.04 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 大久保和喜;萩原三雄;新田和行 |
| 分类号 | G03F7/039;G03F7/20 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1、一种正型抗蚀剂组合物，其中含有通过酸的作用可增大碱溶性的树脂成分(A)、和通过曝光可产生酸的酸产生剂成分(B)，其特征在于上述(A)成分中含有由羟基苯乙烯衍生的结构单元(a1)、和下记通式(I)所示的由(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a2)，上述(B)成分中作为主要成分含有重氮甲烷类酸产生剂，<img file="A2004100452570002C1.GIF" wi="531" he="767" />……式(I)式中，R为氢原子或者甲基；R<sup>1</sup>表示碳原子数为2以上的低级烷基；X为可与相邻碳原子形成单环或者多环式脂肪族烃基的基团。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||