发明名称 流体材料填充装置及其填充方法
摘要 一种流体材料填充装置及其填充方法。真空泵(16)使排气腔(5)压力降低以排出残留在通路孔(21)中的空气或气体。接着,将设置在排气腔(5)邻近的导电膏腔(9)移动到已排气的通路孔(21)。导电膏腔(9)上设置的挤压单元(6)将导电膏(13)推入通路孔(21)中。通路孔(21)的内部空间保持减压状态,使得导电膏(13)深入通路孔(21)。因而使通路孔(21)的内部空间完全充满导电膏(13)。
申请公布号 CN1188020C 申请公布日期 2005.02.02
申请号 CN02147510.5 申请日期 2002.10.10
申请人 株式会社电装 发明人 坂井田敦资;谷口敏尚
分类号 H05K3/00 主分类号 H05K3/00
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 杨松龄
主权项 1.一种将流体材料填充到基底上孔中的填充装置,其特征在于,包括:排气部分(4、16),在与基底顶面接触时形成第一密封腔(5),并使所述第一密封腔(5)减压;流体材料填充部分(4、15),在与所述基底顶面接触时形成第二密封腔(9),并将所述流体材料(13)填充到所述第二密封腔(9)中的所述基底(20)上的所述孔(21)中;和移动机构(14),在所述基底的所述孔在所述排气部分(4、16)的所述第一密封腔(5)中减压之后,可将所述流体材料填充部分(4、15)的所述第二密封腔(9)移动到所述基底(20)的所述孔(21)的位置;其中,所述流体材料填充部分(4、15)包括:供应部分,用来将所述流体材料(13)供应到所述第二密封腔(9)中的所述基底顶面上;和挤压单元(6),用来将所述流体材料(13)推入所述第二密封腔(9)中的所述基底(20)的所述孔(21)中;所述第一密封腔(5)与所述第二密封腔(9)在所述基底顶面上彼此相邻;所述第一密封腔(5)是设置在所述第二密封腔(9)的相对于由所述移动机构(14)移动的所述第二密封腔(9)的移动方向上的至少一个前侧。
地址 日本爱知县