| 发明名称 | 具有改善的边缘场的多头屏蔽梯度线圈 | ||
| 摘要 | 提供了一种成像系统(2)，包括初级梯度线圈组件(52)和屏蔽线圈组件(42)。所述屏蔽线圈组件(42)与所述初级梯度线圈组件(52)串联。所述屏蔽线圈组件(42)包括第一梯度屏蔽线圈(82)和第二梯度屏蔽线圈(84)。所述第二梯度屏蔽线圈(84)与所述第一梯度屏蔽线圈(82)并联。 | ||
| 申请公布号 | CN1572245A | 申请公布日期 | 2005.02.02 |
| 申请号 | CN200410049098.6 | 申请日期 | 2004.06.15 |
| 申请人 | GE医药系统环球科技公司 | 发明人 | 克里斯托弗·J·埃文斯 |
| 分类号 | A61B5/055;G01R33/20;G01R33/385;H01F5/00 | 主分类号 | A61B5/055 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 黄小临;王志森 |
| 主权项 | 1.一种成像系统(2)，包括：初级梯度线圈组件(52)；和屏蔽线圈组件(42)，串联到所述初级梯度线圈组件(52)，所述屏蔽线圈组件(42)包括：第一梯度屏蔽线圈(82)；和并联连接到所述第一梯度屏蔽线圈(82)的第二梯度屏蔽线圈(84)。 | ||
| 地址 | 美国威斯康星州 | ||