| 发明名称 | 光刻胶灵敏度的评价方法和光刻胶的制造方法 | ||
| 摘要 | 提供高精度的光刻胶灵敏度的评价方法。包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到检查对象光刻胶膜上的曝光量监控标记的检查复制像测定要变动的检查特征量的步骤，根据检查特征量用灵敏度校正数据计算检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。 | ||
| 申请公布号 | CN1573548A | 申请公布日期 | 2005.02.02 |
| 申请号 | CN200410042367.6 | 申请日期 | 2004.05.20 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 盐原英志;早崎圭;藤泽忠仁;伊藤信一 |
| 分类号 | G03F7/039;H01L21/027;H01L21/47 | 主分类号 | G03F7/039 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 陈海红;段承恩 |
| 主权项 | 1.一种光刻胶灵敏度的评价方法，其特征在于包括：在检查对象光刻胶膜上借助于曝光装置用检查曝光量使曝光量监控标记曝光的步骤，根据已复制到上述检查对象光刻胶膜上的上述曝光量监控标记的检查复制像测定由于曝光量而变动的检查特征量的步骤，根据上述检查特征量用灵敏度校正数据计算上述检查对象光刻胶膜的检查光刻胶灵敏度的步骤。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||