发明名称 清洗装置
摘要 本发明提供了一种在减少灰尘的发生源的同时,通过防止吹在被清洗物上的CO<SUB>2</SUB>的结露,可以进行洁净清洗的清洗装置。在从喷嘴将溶媒喷射在被清洗物上进行清洗的清洗装置中,为了防止被清洗物的结露,具有将加热的气体喷射在被清洗物表面上的气体喷射装置,当清洗时该气体喷射装置在上述被清洗物上移动,在不清洗时从上述被清洗物退避。在不清洗时,喷射小流量的加热气体,在清洗时,喷射大流量的加热气体。
申请公布号 CN1572383A 申请公布日期 2005.02.02
申请号 CN200410042930.X 申请日期 2004.06.01
申请人 富士电机电子设备技术株式会社 发明人 吉田隆司;菊地长保;岩崎元明;幅谷仓夫;矢野达郎;城间贵浩
分类号 B08B7/04;B08B3/00;B08B5/00;G11B23/50;H01L21/304 主分类号 B08B7/04
代理机构 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人 龙淳
主权项 1.一种清洗装置,其可将清洗剂从喷嘴喷射至被清洗物上进行清洗,其特征为,具有将加热的气体喷射在被清洗物的表面上的气体喷射装置,清洗时可在所述被清洗物上移动,不清洗时从所述被清洗物上退避,在清洗时和非清洗时可以控制所述加热的气体的喷射量。
地址 日本东京都