发明名称 |
清洗装置 |
摘要 |
本发明提供了一种在减少灰尘的发生源的同时,通过防止吹在被清洗物上的CO<SUB>2</SUB>的结露,可以进行洁净清洗的清洗装置。在从喷嘴将溶媒喷射在被清洗物上进行清洗的清洗装置中,为了防止被清洗物的结露,具有将加热的气体喷射在被清洗物表面上的气体喷射装置,当清洗时该气体喷射装置在上述被清洗物上移动,在不清洗时从上述被清洗物退避。在不清洗时,喷射小流量的加热气体,在清洗时,喷射大流量的加热气体。 |
申请公布号 |
CN1572383A |
申请公布日期 |
2005.02.02 |
申请号 |
CN200410042930.X |
申请日期 |
2004.06.01 |
申请人 |
富士电机电子设备技术株式会社 |
发明人 |
吉田隆司;菊地长保;岩崎元明;幅谷仓夫;矢野达郎;城间贵浩 |
分类号 |
B08B7/04;B08B3/00;B08B5/00;G11B23/50;H01L21/304 |
主分类号 |
B08B7/04 |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种清洗装置,其可将清洗剂从喷嘴喷射至被清洗物上进行清洗,其特征为,具有将加热的气体喷射在被清洗物的表面上的气体喷射装置,清洗时可在所述被清洗物上移动,不清洗时从所述被清洗物上退避,在清洗时和非清洗时可以控制所述加热的气体的喷射量。 |
地址 |
日本东京都 |