发明名称 |
系统LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法 |
摘要 |
一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其中含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮基酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,(B)成分中含有上述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物。根据本发明可以提供适用于系统LCD制造的、可同时满足高感度和高分辨型的正型光致抗蚀剂组合物以及抗蚀图案的形成方法。 |
申请公布号 |
CN1573544A |
申请公布日期 |
2005.02.02 |
申请号 |
CN200410044713.4 |
申请日期 |
2004.05.17 |
申请人 |
东京应化工业株式会社 |
发明人 |
土井宏介;新仓聪;大内康秀 |
分类号 |
G03F7/022;G03F7/20;H01L21/00 |
主分类号 |
G03F7/022 |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
朱丹 |
主权项 |
1.一种正型光致抗蚀剂组合物,是在一个基板上形成有集成电路和液晶显示部分的LCD制造用正型光致抗蚀剂组合物,其特征是:含有(A)碱溶性树脂、(B)萘醌二叠氮酯化物、(C)分子量为1000以下的含酚性羟基化合物、以及(D)有机溶剂,所述(B)成分中含有下述通式(I)所表示的化合物和1,2-萘醌二叠氮基-4-磺酰化合物的酯化反应生成物,<img file="A2004100447130002C1.GIF" wi="1713" he="549" />[式中,R<sup>1</sup>~R<sup>8</sup>各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;R<sup>10</sup>、R<sup>11</sup>各自独立地代表氢原子或碳原子数1~6的烷基;R<sup>9</sup>可以是氢原子或碳原子数1~6的烷基,这时,Q<sup>1</sup>为氢原子、碳原子数1~6的烷基、或下述化学式(II)表示的残基,<img file="A2004100447130002C2.GIF" wi="884" he="414" />(式中,R<sup>12</sup>及R<sup>13</sup>各自独立地代表氢原子、卤素原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~6的烷氧基、或碳原子数3~6的环烷基;c表示1~3的整数),Q<sup>1</sup>还可以和R<sup>9</sup>的末端结合,这时,Q<sup>1</sup>和R<sup>9</sup>以及Q<sup>1</sup>和R<sup>9</sup>之间的碳原子一起表示碳链3~6的环烷基;a、b代表1~3的整数;d代表0~3的整数;a、b或d为3时,R<sup>3</sup>、R<sup>5</sup>或R<sup>8</sup>分别不存在;n表示0~3的整数]。 |
地址 |
日本神奈川县 |