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发明名称 AN ION IMPLANTATION DEVICE AND A METHOD OF SEMICONDUCTOR MANUFACTURING BY THE IMPLANTATION OF BORON HYDRIDE CLUSTER IONS
摘要
申请公布号 KR20050012825(A) 申请公布日期 2005.02.02
申请号 KR20047020953 申请日期 2003.06.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/265;H01J27/20;H01J37/08;H01J37/317;H01L21/00;H01L21/336 主分类号 H01L21/265
代理机构 代理人
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