发明名称 由高纯度氧化钼形成的电子器件
摘要 本发明涉及在器件的至少一部分中包括高纯度氧化钼的电子器件。根据本发明的器件如双极性晶体管、场效应晶体管和闸流晶体管具有高耐压。本发明还涉及使用高纯度氧化钼形成的对环境惰性的电子器件。根据本发明的器件可以在相对较低的温度如700℃下制造,此温度低于制造GaN或SiC器件的温度,即高于1000℃的温度。
申请公布号 CN1574105A 申请公布日期 2005.02.02
申请号 CN200410047400.4 申请日期 2004.06.09
申请人 河东田隆 发明人 河东田隆
分类号 H01B1/00;H01B1/08;H01L21/28;H01L29/772;H01L29/73;H01L29/74 主分类号 H01B1/00
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人 樊卫民;郭国清
主权项 1.一种半导体电子器件,其中至少在主要部分中使用高纯度氧化钼。
地址 日本高知县