| 发明名称 | 一种滤光片的快速再处理方法 | ||
| 摘要 | 一种滤光片的快速再处理方法，是快速去除滤光阵列非极性R/G/B色剂的方法，非极性R/G/B色剂是形成于一底层上。首先进行一裂解前处理制程，以便于将该非极性R/G/B色剂内的交联高分子裂解为较小的分子碎片；接着进行一等离子体清洗制程，来进一步氧化非极性R/G/B色剂，以及进行一溶剂清洗制程，利用一非极性溶剂，来完全清除残留于该底层表面的非极性R/G/B色剂。具有让等离子体清洗与溶剂去除干净的功效。 | ||
| 申请公布号 | CN1187628C | 申请公布日期 | 2005.02.02 |
| 申请号 | CN02127094.5 | 申请日期 | 2002.07.29 |
| 申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 廖俊雄;陈庆忠 |
| 分类号 | G02B5/20 | 主分类号 | G02B5/20 |
| 代理机构 | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人 | 刘朝华 |
| 主权项 | 1、一种滤光片的快速再处理方法，其中非极性R/G/B色剂是形成于一底层上，其特征是：该方法包含有下列步骤：(1)利用负光致抗蚀剂显影剂进行裂解前处理制程，以将非极性R/G/B色剂内的交联高分子裂解为较小的分子碎片；(2)进行等离子体清洗制程，以进一步氧化该非极性R/G/B色剂；(3)进行溶剂清洗制程，利用非极性溶剂，以完全清除残留于该底层表面的非极性R/G/B色剂。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹市 | ||