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发明名称 PLASMA PROCESSING SYSTEM, PLASMA PROCESSING METHOD, PLASMA FILM DEPOSITION SYSTEM, AND PLASMA FILM DEPOSITION METHOD
摘要
申请公布号 KR20050012818(A) 申请公布日期 2005.02.02
申请号 KR20047020686 申请日期 2003.06.17
申请人 发明人
分类号 C23C16/507;H01L21/205;B01J19/08;H01J37/32;H05H1/46 主分类号 C23C16/507
代理机构 代理人
主权项
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